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堅持“以用戶為中心、以人才為根本、努力實現你我共贏”的經營理念，以我們誠信的態度和加倍的努力，與您共同發展。
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2025-07-16 在材料科學研究中，相變過程(如熔融、結晶、玻璃化轉變)的精準觀測是解析材料性能的關鍵，冷熱臺通過可控的溫度環境與光學觀測系統的結合，成為捕捉相變細節的核心工具。...
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氣相輸運與沉積系統(VaporTransportａndDeposition,VTD)是一種廣泛應用于半導體、光學薄膜及二維材料制備的關鍵技術。其核心在于通過氣相將源材料從高溫區輸運至低溫襯底，并在后者表面實現可控成膜。理解這一過程，需深入剖...
在現代顯微成像、材料科學及生物醫學研究中，冷熱臺(也稱溫控樣品臺)作為實現樣品在可控溫度環境下觀察的重要工具，其性能直接影響實驗數據的可靠性與圖像質量。其中，樣品臺的平整度與光學透過率是兩個至關重要的技術參數，它們共同決定了成像系統的分辨率...
臺式ALD設備通過遠程監控與數據管理功能，可實現工藝優化、故障預警及跨實驗室協作。核心功能模塊實時數據訪問：溫度/壓力監測：通過Web界面查看腔體溫度(±0.1℃精度)和反應氣壓力曲線。前驅體消耗量：自動記錄TMA(三甲基鋁)...
2025-08-18 一臺來自哈佛大學的原子層沉積系統一臺科研用的原子層沉積系統一臺備受課題組歡迎的ALD市面上小而美的ALD您值得擁有??！盈思拓(Insontech)----Anr...
查看詳情 顯微成像橢偏儀是一種將橢偏技術與光學顯微成像結合的精密儀器，主要用于在微米尺度上無損測量薄膜的厚度、折射率等光學參數，并能實時可視化樣品表面的形貌分布。它適合分析微結構樣品，比如集成電路、傳感器或二維材料，具有亞納米級的厚度分辨率和微米級的...
在先進半導體制造、新能源材料及納米器件研發中，對薄膜厚度與成分的控制精度要求已進入亞納米級別。ALD原子層沉積設備技術憑借其獨特的自限制反應機制，成為實現這一目標的核心手段。而ALD設備正是實現亞納米級精準控制的關鍵載體。ALD的基本原理是...
在現代科研與分析測試實驗室中，激光器、電感耦合等離子體光譜儀(ICP)、X射線衍射儀(XRD)等高精密儀器對工作環境的溫度穩定性要求高。這些設備在運行過程中會產生大量熱量，若不能及時有效散熱，將導致性能漂移、壽命縮短甚至突發故障。此時，實驗...
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